半導体に使用されるシリコンウェハーにブラストシールを貼ってみましょう。貼り付ける部分に油分などが無い様にクリーニングをします。

透明な離型フィルムを剥がして貼りつけます。

ワークを加温しておくと密着力が向上します。

ローラーなどで抑え、密着させます。局部的に力を加えると変形するので注意してください。グラシン紙の上からサンドブラスト行います。

サンドブラスト完了後、剥離溶剤（アセトン、MEKなど）に浸漬すれば、ブラストシールが膨潤して膜状に浮いてきます。

写真網版のブラストシールを貼ってみましょう。油分、水分を嫌いにふき取り取りましょう。ガラスを温めておくとさらに密着力が向上します。離型紙をゆっくりはがします。

ワークに貼りつけます。

局部的に力を加えると変形しますので注意してください。

フィルムを剥がします。細かい画像の時はしばらく時間をおいてからはがす方が転写しやすくなります。焦らずゆっくりと！離形紙のつるつるした面を利用して押えるとと効果的です。

周囲のマスキングを行えばブラスト加工が可能となります。

加工後は40℃くらいのお湯にしばらく浸けておくと剥がしやすくなります。